产品中心
飞照新材电子束光刻胶的PMMA系列可对标Allresist 和 Microchem产品库，提供客户定制化开发方案，例如不同粘度（膜厚相关），PMMA树脂分子量覆盖50k-950k（灵敏度/分辨率相关）, 分子量分布PDI 1.5-2.5 (分辨率/LWR相关)，不同溶剂体系（苯甲醚或氯苯）的产品。
产品覆盖正性、负性光刻胶。具有高膜厚均匀性和高分辨率。
适用于：TSV，RDL，Bump。
KX557 光刻胶
产品体系：I-Line 正性光刻胶 应用领域：IC 耐刻蚀、离子注入 膜厚范围：0.6~1.5μm分辨率：FT@1μm，CD@0.35μm产品特点：高分辨率、高陡直度、低能量
KX150 光刻胶
产品体系：GHI-Line 正性光刻胶 应用领域：先进封装、RDL膜厚范围：5~25μm分辨率：FT@15μm，CD@7μm产品特点：高膜厚、高陡直度、耐电镀
KrF BARC
KF248系列 KF250系列
ArF BARC
KF186系列
